从168报告网发布的《2022年全球及中国半导体清理洗涤设施行业头部企业市场占有率及排名调研报告》行业分析报告数据显示，该报告包含了全球与中国半导体清理洗涤设施市场的研究分析，同时报告也分析影响市场发展的因素，并且该报告的数据都是使用主要与次要的研究方法来作为基础所得出的，其目的是让用户都能够及时了解到市场的发展机遇与不利因素。

  清洗步骤贯穿整个半导体制程，用于去除半导体硅片制备、晶圆制造和封装测试每个步骤中有几率存在的杂质、避免杂质影响芯片良率和芯片产品的性能。

  目前，随着芯片制程工艺技术节点的逐步的提升，对每一步骤晶圆表面的污染物和残留物的要求日益提升。2020年全球半导体清理洗涤设施市场规模为25.39亿美元，同比下降16.72%。预计到2024年，全球半导体清理洗涤设施市场规模将增至 31.93 亿美元。

  全球半导体清理洗涤设施仍由DNS和TEL主导，两家市场占有率占比达77%。其次分别为Lam、SEMES、盛美，占比分别为12%、5%、3%。返回搜狐，查看更加多